Peschl 降膜光反应器采用特殊设计,能够高效照射低透射率液体,形成均匀的降膜,具有高湍流度(翻滚)和低层厚。该设计可防止夹套管上沉积,且液膜与浸没式灯系统无物理接触。为了形成恒定且平衡的降膜,需要一定的最小流速,其湍流度(雷诺数 Re > 400)达到标准。独特的溢流边缘和液体分布设计可防止膜撕裂。这大大简化了设备的调平。
与环形薄层光反应器相比,降膜光反应器的优势显而易见:
停留时间受到实现湍流所需的高流量的严重限制,而在降膜光反应器中,停留时间取决于降膜的长度。湍流取决于待照射溶液流量在给定限度内的降膜厚度。
Peschl 降膜光反应器的设计理念是,通过改变受辐照薄膜的表面积,可以针对特定的光化学反应调节和优化入射辐射功率密度。该设计提供高效的光反应器——可根据每种工艺量身定制,并配备温控系统,温度范围为 -80ºC 至 +120ºC。使用 Peschl Ultraviolet GmbH 的降膜光反应器,现在可以成功实现吸收率极强的基质的光化学反应。